JP2008021736A - Optical sensor, filter, and filter manufacturing method - Google Patents

Optical sensor, filter, and filter manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2008021736A
JP2008021736A JP2006190695A JP2006190695A JP2008021736A JP 2008021736 A JP2008021736 A JP 2008021736A JP 2006190695 A JP2006190695 A JP 2006190695A JP 2006190695 A JP2006190695 A JP 2006190695A JP 2008021736 A JP2008021736 A JP 2008021736A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filter
red
organic pigment
light receiving
receiving element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006190695A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5261892B2 (en
Inventor
Takatsugu Tomita
卓嗣 冨田
Tomohito Kitamura
智史 北村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2006190695A priority Critical patent/JP5261892B2/en
Publication of JP2008021736A publication Critical patent/JP2008021736A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5261892B2 publication Critical patent/JP5261892B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

【課題】生産性の高い赤外線領域の光センサを提供する。
【解決手段】光センサ5は、赤色の有機顔料により各受光素子12上に形成された赤フィルタ14Rと、赤フィルタ14Rより短波長域で入射光を透過するシアン色の有機顔料により選択的に赤フィルタ14R上に形成されたシアンフィルタ14Cyと、シアンフィルタ14Cyより短波長域で入射光を透過する青色の有機顔料により選択的に赤フィルタ14R上に形成された青フィルタ14Bと、シアンフィルタ14Cyと赤フィルタ14Rとを透過した入射光を受光するシアン受光素子12Cyから得られた強度値から、青フィルタ14Bと赤フィルタ14Rとを透過した入射光を受光する青受光素子12Bから得られた強度値を引き算処理する演算部21とを備える。
【選択図】 図1
An optical sensor in the infrared region with high productivity is provided.
An optical sensor includes a red filter formed on each light receiving element with a red organic pigment and a cyan organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter. A cyan filter 14Cy formed on the red filter 14R, a blue filter 14B selectively formed on the red filter 14R by a blue organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the cyan filter 14Cy, and a cyan filter 14Cy Intensity obtained from the blue light receiving element 12B that receives the incident light that has passed through the blue filter 14B and the red filter 14R from the intensity value obtained from the cyan light receiving element 12Cy that receives the incident light that has passed through the red filter 14R. And an arithmetic unit 21 for subtracting values.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、生産性の高い赤外線領域の光センサ、フィルタおよびフィルタ製造方法に関する。   The present invention relates to a highly productive infrared region optical sensor, filter, and filter manufacturing method.

近年、光を検出する光センサが種々の分野で用いられている。例えば、一眼レフカメラなどで用いられる被写体への測長手段や車載カメラ・監視カメラなどには赤外線を検出する光センサが利用されている。   In recent years, optical sensors that detect light have been used in various fields. For example, an optical sensor that detects infrared rays is used for a length measuring means for a subject used in a single-lens reflex camera or the like, an in-vehicle camera, a surveillance camera, or the like.

光センサには、赤外線のような特定の波長領域の光を透過するフィルタが受光素子上に形成されている。フィルタには、無機材料の多層薄膜からなる無機フィルタや、有機顔料を分散させた有機顔料フィルタ等がある。   In the optical sensor, a filter that transmits light in a specific wavelength region such as infrared rays is formed on the light receiving element. Examples of the filter include an inorganic filter made of a multilayer thin film of an inorganic material, an organic pigment filter in which an organic pigment is dispersed, and the like.

ここで、赤外線領域の光センサにおいては、波長選択性の良い無機フィルタが用いられることが多い。無機フィルタは、ピーク波長の光を高い透過率で透過し、他の波長領域の光を反射する。そのため、一般的には、有機顔料フィルタに比して、無機フィルタは、色純度が高く、輝度も高いという性質を有している。このような無機フィルタの例としては、SiOとTiOとを交互に積層したものが挙げられる(例えば、特許文献1参照)。
特開平6−337310号公報
Here, in the optical sensor in the infrared region, an inorganic filter with good wavelength selectivity is often used. The inorganic filter transmits light having a peak wavelength with high transmittance and reflects light in other wavelength regions. Therefore, in general, an inorganic filter has properties of high color purity and high luminance as compared with an organic pigment filter. An example of such an inorganic filter is one in which SiO 2 and TiO 2 are alternately laminated (see, for example, Patent Document 1).
JP-A-6-337310

しかしながら、上述した無機フィルタは、以下に示す理由から、有機顔料フィルタに比して生産性が低い。   However, the above-described inorganic filter has lower productivity than the organic pigment filter for the following reasons.

(A)無機フィルタの製造に際して、真空蒸着装置を用いる必要がある。それゆえ、成膜するのに長時間かかる。本発明者らの検討によれば、チェンバ排気、蒸着、冷却ベンドを行なうのに20時間程度を要する。   (A) When manufacturing an inorganic filter, it is necessary to use a vacuum evaporation apparatus. Therefore, it takes a long time to form a film. According to the study by the present inventors, it takes about 20 hours to perform chamber exhaust, vapor deposition, and cooling bend.

(B)無機フィルタを用いて光センサを製造した場合、無機フィルタが分光異常となった際に、無機フィルタを除去し、再度無機フィルタを製造するというリワークが不可能である。このため、フィルタに分光異常が生じた場合には、光センサそのものを無駄にすることになる。   (B) When an optical sensor is manufactured using an inorganic filter, when the inorganic filter becomes spectrally abnormal, reworking of removing the inorganic filter and manufacturing the inorganic filter again is impossible. For this reason, when a spectral abnormality occurs in the filter, the optical sensor itself is wasted.

(C)無機フィルタは、TiO等の無機材料を真空蒸着方式で成膜するため、曲げ等の外力により多層薄膜にクラックが生じやすい。すなわち、可撓性がないので、数十μmレベルの欠陥が生じることが多い。 (C) Since the inorganic filter forms a film of an inorganic material such as TiO 2 by a vacuum deposition method, a crack is likely to occur in the multilayer thin film due to an external force such as bending. That is, since there is no flexibility, defects of several tens of μm often occur.

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、生産性の高い赤外線領域の光センサ、フィルタおよびフィルタ製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a highly productive infrared region optical sensor, filter, and filter manufacturing method.

本発明は上記課題を解決するために以下の手段を講じる。   The present invention takes the following means in order to solve the above problems.

請求項1に対応する発明は、基板と、前記基板に形成され、受光した入射光の強度値を得るための複数の受光素子と、前記各受光素子上に、赤色の有機顔料により形成された赤フィルタと、前記赤フィルタ上に、該赤フィルタより短波長域で入射光を透過する第1の有機顔料により選択的に形成された第1フィルタと、前記第1フィルタが形成された位置とは異なる前記赤フィルタ上の位置に、該第1フィルタより短波長域で入射光を透過する第2の有機顔料により選択的に形成された第2フィルタと、前記第1フィルタと前記赤フィルタとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値から、前記第2フィルタと前記赤フィルタとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値を引き算処理する演算手段とを備えた光センサである。   The invention corresponding to claim 1 is formed of a substrate, a plurality of light receiving elements formed on the substrate for obtaining an intensity value of received incident light, and a red organic pigment on each of the light receiving elements. A red filter, a first filter selectively formed on the red filter by a first organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter, and a position at which the first filter is formed. A second filter selectively formed by a second organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the first filter at a different position on the red filter, the first filter, and the red filter, Calculating means for subtracting the intensity value obtained from the light receiving element that receives the incident light that has passed through the second filter and the red filter from the intensity value obtained from the light receiving element that receives the incident light transmitted through the second filter; Light with It is a capacitor.

請求項2に対応する発明は、請求項1に対応する光センサにおいて、前記第1フィルタは、シアン色の有機顔料からなるシアンフィルタであり、前記第2フィルタは、青色の有機顔料からなる青フィルタである光センサである。   According to a second aspect of the present invention, in the optical sensor according to the first aspect, the first filter is a cyan filter made of a cyan organic pigment, and the second filter is a blue light made of a blue organic pigment. An optical sensor that is a filter.

請求項3に対応する発明は、基板と、前記基板に形成され、受光した入射光の強度値を得るための複数の受光素子と、前記受光素子上に、赤色の有機顔料により選択的に形成された赤フィルタと、前記赤フィルタが形成された位置とは異なる前記受光素子上の位置に、該赤フィルタより短波長域で入射光を透過するシアン色の有機顔料により選択的に形成されたシアンフィルタと、前記赤フィルタおよび前記シアンフィルタが形成された位置とは異なる前記受光素子上の位置に、前記シアンフィルタより短波長域で入射光を透過する青色の有機顔料により選択的に形成された青フィルタと、前記赤フィルタ、前記シアンフィルタ、前記青フィルタのそれぞれを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値に基づいて、赤外線領域の光の強度値を求める演算手段とを備えた光センサである。   According to a third aspect of the present invention, a substrate, a plurality of light receiving elements formed on the substrate for obtaining an intensity value of received incident light, and a red organic pigment are selectively formed on the light receiving elements. And a cyan organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter at a position on the light receiving element different from the position where the red filter is formed. A cyan filter and a blue organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength range than the cyan filter are selectively formed at a position on the light receiving element different from the positions at which the red filter and the cyan filter are formed. Based on intensity values obtained from light receiving elements that receive incident light transmitted through the blue filter and the red filter, the cyan filter, and the blue filter. A light sensor and an arithmetic means for calculating the intensity value.

請求項4に対応する発明は、基板に形成された第1受光素子および第2受光素子と、前記第1受光素子から得られた強度値と、前記第2受光素子から得られた強度値とを引き算処理する演算手段とを備えた光センサに用いられるフィルタであって、前記第1受光素子上に順次積層される、赤色の有機顔料からなる赤フィルタおよびシアン色の有機顔料からなるシアンフィルタと、前記第2受光素子上に順次積層される、赤色の有機顔料からなる赤フィルタおよび青色の有機顔料からなる青フィルタとを備えたフィルタである。   The invention corresponding to claim 4 is the first light receiving element and the second light receiving element formed on the substrate, the intensity value obtained from the first light receiving element, and the intensity value obtained from the second light receiving element, A filter for use in an optical sensor having a subtracting processing unit, wherein a red filter made of a red organic pigment and a cyan filter made of a cyan organic pigment are sequentially stacked on the first light receiving element. And a red filter made of a red organic pigment and a blue filter made of a blue organic pigment, which are sequentially stacked on the second light receiving element.

請求項5に対応する発明は、基板に形成された複数の受光素子上に、赤色の有機顔料からなる赤フィルタを形成する赤フィルタ形成工程と、前記赤フィルタ上に、該赤フィルタより短波長域で入射光を透過する第1の有機顔料からなる第1フィルタを選択的に形成する第1フィルタ形成工程と、前記第1フィルタが形成される位置とは異なる赤フィルタ上の位置に、該第1フィルタより短波長域で入射光を透過する第2の有機顔料からなる第2フィルタを選択的に形成する第2フィルタ形成工程とを備えたフィルタ製造方法である。   The invention corresponding to claim 5 includes a red filter forming step of forming a red filter made of a red organic pigment on a plurality of light receiving elements formed on a substrate, and a wavelength shorter than that of the red filter on the red filter. A first filter forming step of selectively forming a first filter made of a first organic pigment that transmits incident light in a region, and a position on the red filter that is different from a position where the first filter is formed, And a second filter forming step of selectively forming a second filter made of a second organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the first filter.

請求項6に対応する発明は、請求項5に対応するフィルタ製造方法において、前記第1フィルタは、シアン色の有機顔料からなるシアンフィルタであり、前記第2フィルタは、青色の有機顔料からなる青フィルタであるフィルタ製造方法である。   The invention corresponding to claim 6 is the filter manufacturing method corresponding to claim 5, wherein the first filter is a cyan filter made of a cyan organic pigment, and the second filter is made of a blue organic pigment. It is a filter manufacturing method which is a blue filter.

<用語>
本発明において、「透過率」は、屈折率1.5前後の透明ガラスの透過率を100%として求めている。
<Terminology>
In the present invention, “transmittance” is determined by setting the transmittance of a transparent glass having a refractive index of around 1.5 as 100%.

また、「半値波長」は、光の透過が抑制された短波長側から光を透過する長波長側にかけて透過率が増加している分光特性曲線において、透過率の値が50%となる光の波長を意味する。すなわち、略S字状となった分光特性曲線における半値波長である。   In addition, the “half-value wavelength” is a spectral characteristic curve in which the transmittance increases from the short wavelength side where the transmission of light is suppressed to the long wavelength side where the light is transmitted. It means wavelength. That is, the half-value wavelength in the spectral characteristic curve that is substantially S-shaped.

<作用>
従って、本発明は以上のような手段を講じたことにより、以下の作用を有する。
<Action>
Therefore, the present invention has the following effects by taking the above-described means.

請求項1に対応する発明は、赤色の有機顔料により各受光素子上に形成された赤フィルタと、赤フィルタより短波長域で入射光を透過する第1の有機顔料により選択的に赤フィルタ上に形成された第1フィルタと、第1フィルタより短波長域で入射光を透過する第2の有機顔料により選択的に赤フィルタ上に形成された第2フィルタと、第1フィルタと赤フィルタとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値から、第2フィルタと赤フィルタとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値を引き算処理する演算手段とを備えた構成により、有機顔料を用いて赤外線透過フィルタを形成しているので、生産性の高い赤外線領域の光センサを提供できる。   The invention corresponding to claim 1 is a red filter selectively formed on a red filter by a red filter formed on each light receiving element by a red organic pigment and a first organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter. A second filter selectively formed on the red filter by a second organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the first filter, a first filter, and a red filter; Calculating means for subtracting the intensity value obtained from the light receiving element that receives the incident light transmitted through the second filter and the red filter from the intensity value obtained from the light receiving element that receives the incident light transmitted through the second filter. With this configuration, since the infrared transmission filter is formed using an organic pigment, an optical sensor in the infrared region with high productivity can be provided.

請求項2に対応する発明は、請求項1に対応する光センサにおいて、第1フィルタが、シアン色の有機顔料からなるシアンフィルタであり、第2フィルタが、青色の有機顔料からなる青フィルタであるので、略750nm〜略800nmの波長領域の赤外線を検出し得る光センサを提供できる。   The invention corresponding to claim 2 is the optical sensor according to claim 1, wherein the first filter is a cyan filter made of a cyan organic pigment, and the second filter is a blue filter made of a blue organic pigment. Therefore, an optical sensor that can detect infrared rays in a wavelength region of about 750 nm to about 800 nm can be provided.

請求項3に対応する発明は、赤色の有機顔料により受光素子上に選択的に形成された赤フィルタと、赤フィルタが形成された位置とは異なる受光素子上の位置に、シアン色の有機顔料により選択的に形成されたシアンフィルタと、赤フィルタおよびシアンフィルタが形成された位置とは異なる受光素子上の位置に、青色の有機顔料により選択的に形成された青フィルタと、赤フィルタ・シアンフィルタ・青フィルタのそれぞれを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値に基づいて、赤外線領域の光の強度値を求める演算手段とを備えた構成により、略750nm〜略800nmの波長領域の赤外線を検出する光センサを提供できる。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a red filter selectively formed on a light receiving element by a red organic pigment, and a cyan organic pigment at a position on the light receiving element different from the position where the red filter is formed. A blue filter selectively formed with a blue organic pigment at a position on the light receiving element different from a position where the red filter and the cyan filter are formed, and a red filter and cyan. Based on the intensity value obtained from the light receiving element that receives the incident light that has passed through each of the filter and the blue filter, and a calculation means for calculating the intensity value of the light in the infrared region, approximately 750 nm to approximately 800 nm An optical sensor that detects infrared rays in the wavelength region can be provided.

請求項4に対応する発明は、基板に形成された第1受光素子および第2受光素子と、第1受光素子から得られた強度値と第2受光素子から得られた強度値とを引き算処理する演算手段とを備えた光センサに用いられるフィルタであって、第1受光素子上に順次積層される赤フィルタおよびシアンフィルタと、第2受光素子上に順次積層される赤フィルタおよび青フィルタとを備えた構成により、略750nm〜略800nmの波長領域の赤外線を抽出するフィルタを提供できる。   In the invention corresponding to claim 4, the first light receiving element and the second light receiving element formed on the substrate, the intensity value obtained from the first light receiving element, and the intensity value obtained from the second light receiving element are subtracted. And a red filter and a cyan filter that are sequentially stacked on the first light receiving element, and a red filter and a blue filter that are sequentially stacked on the second light receiving element, By the structure provided with, the filter which extracts the infrared rays of a wavelength range of about 750 nm-about 800 nm can be provided.

請求項5に対応する発明は、基板に形成された複数の受光素子上に、赤色の有機顔料からなる赤フィルタを該受光素子毎に個別に形成する赤フィルタ形成工程と、該赤フィルタより短波長域で入射光を透過する第1の有機顔料からなる第1フィルタを赤フィルタ上に選択的に形成する第1フィルタ形成工程と、第1フィルタが形成される位置とは異なる赤フィルタ上の位置に、該第1フィルタより短波長域で入射光を透過する第2の有機顔料からなる第2フィルタを選択的に形成する第2フィルタ形成工程とを備えているので、赤外線領域のフィルタを高い生産性で製造し得るフィルタ製造方法を提供できる。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a red filter forming step in which a red filter made of a red organic pigment is individually formed on a plurality of light receiving elements formed on a substrate for each light receiving element; A first filter forming step of selectively forming, on the red filter, a first filter made of a first organic pigment that transmits incident light in a wavelength region; And a second filter forming step of selectively forming a second filter made of a second organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the first filter. A filter manufacturing method that can be manufactured with high productivity can be provided.

請求項6に対応する発明は、請求項5に対応するフィルタ製造方法において、第1フィルタが、シアン色の有機顔料からなるシアンフィルタであり、第2フィルタが、青色の有機顔料からなる青フィルタであるので、略750nm〜略800nmの波長領域の赤外線を抽出するフィルタを製造することができる。   The invention corresponding to claim 6 is the filter manufacturing method corresponding to claim 5, wherein the first filter is a cyan filter made of a cyan organic pigment, and the second filter is a blue filter made of a blue organic pigment. Therefore, it is possible to manufacture a filter that extracts infrared rays in a wavelength region of about 750 nm to about 800 nm.

本発明によれば、生産性の高い赤外線領域の光センサ、フィルタおよびフィルタ製造方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical sensor, filter, and filter manufacturing method of an infrared region with high productivity can be provided.

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<第1の実施形態>
(1−1.構成)
図1は本発明の第1の実施形態に係る光センサ5の構成を示す模式図であり、図2は図1における光センサ5のI−I’断面の構成を示す図である。
<First Embodiment>
(1-1. Configuration)
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of the optical sensor 5 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the cross section II ′ of the optical sensor 5 in FIG.

光センサ5は、検出部10と信号処理部20とを備えている。なお、本実施形態では受光素子として、CMOSを例示する。   The optical sensor 5 includes a detection unit 10 and a signal processing unit 20. In the present embodiment, a CMOS is exemplified as the light receiving element.

検出部10は、基板11と受光素子12・平坦化層13・フィルタ14・マイクロレンズ15とを備えている。   The detection unit 10 includes a substrate 11, a light receiving element 12, a planarization layer 13, a filter 14, and a microlens 15.

基板11は、電気信号の授受を可能とする配線層を具備する半導体基板である。配線層を介して、受光素子12が受光した光の強度値を信号処理部20に送出する。   The substrate 11 is a semiconductor substrate having a wiring layer that enables transmission and reception of electrical signals. The intensity value of the light received by the light receiving element 12 is sent to the signal processing unit 20 through the wiring layer.

受光素子12は、基板11に形成され、受光した入射光を電気信号に光電変換するものであり、その入射光の強度値を求める機能を有する。また、受光素子12は、光電変換して得られる強度値を演算部21に送出する。なお、後述するように本実施形態においては、フィルタ14として、赤フィルタ14Rが形成され、その赤フィルタ14R上にシアンフィルタ14Cyおよび青フィルタ14Bが積層される。そこで、便宜上、シアンフィルタ14Cyおよび青フィルタ14Bのそれぞれを透過した光を受光する受光素子を、それぞれシアン受光素子12Cy・青受光素子12Bと呼ぶこととする。   The light receiving element 12 is formed on the substrate 11 and photoelectrically converts received incident light into an electric signal, and has a function of obtaining an intensity value of the incident light. In addition, the light receiving element 12 sends an intensity value obtained by photoelectric conversion to the calculation unit 21. As will be described later, in this embodiment, a red filter 14R is formed as the filter 14, and a cyan filter 14Cy and a blue filter 14B are stacked on the red filter 14R. Therefore, for the sake of convenience, the light receiving elements that receive the light transmitted through each of the cyan filter 14Cy and the blue filter 14B are referred to as a cyan light receiving element 12Cy and a blue light receiving element 12B, respectively.

平坦化層13は、受光素子12が形成された基板11の入射光側の面に積層されるものであり、赤フィルタ14Rの設置面を平坦にしている。なお、平坦化層13は、紫外線吸収剤としてクマリン系の染料を染料濃度で5%含有したアクリル樹脂により形成されている。   The planarization layer 13 is laminated on the surface on the incident light side of the substrate 11 on which the light receiving element 12 is formed, and the installation surface of the red filter 14R is flattened. The flattening layer 13 is made of an acrylic resin containing 5% of a coumarin dye as a UV absorber in terms of dye concentration.

フィルタ14は、受光素子12のそれぞれの上に、有機顔料を積層して形成されるものである。ここでは、フィルタ14として、赤フィルタ14Rと、その赤フィルタ14R上に、シアンフィルタ14Cyと青フィルタ14Bとが個別に形成される。なお、各フィルタの膜厚は1.5μmとし、画素ピッチは5μmとする。   The filter 14 is formed by laminating an organic pigment on each of the light receiving elements 12. Here, as the filter 14, a red filter 14R and a cyan filter 14Cy and a blue filter 14B are individually formed on the red filter 14R. The film thickness of each filter is 1.5 μm, and the pixel pitch is 5 μm.

赤フィルタ14Rは、光センサに入射する入射光のうち、赤領域から長波長域の光(すなわち、赤領域の光と赤外域の光)を透過するフィルタである。この赤フィルタ14Rは、C.I. Pigment Red 179、C.I. Pigment Red 177、C.I. Pigment Red 224、C.I. Pigment Red 254から1種もしくは複数種選択された赤顔料と、C.I. Pigment Yellow 139、C.I. Pigment Yellow 150から1種もしくは複数種選択された黄顔料とを混合した有機顔料により形成される。また、赤フィルタ14Rは、略570nm以上の波長領域の光に対して高い透過率を有するものであり、半値波長は略600nmである。   The red filter 14 </ b> R is a filter that transmits light in a long wavelength region from the red region (that is, light in the red region and light in the infrared region) out of incident light incident on the optical sensor. This red filter 14R includes one or more red pigments selected from CI Pigment Red 179, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 224, and CI Pigment Red 254, and one from CI Pigment Yellow 139 and CI Pigment Yellow 150. Or it forms with the organic pigment which mixed the yellow pigment selected from multiple types. The red filter 14R has a high transmittance for light in a wavelength region of approximately 570 nm or more, and the half-value wavelength is approximately 600 nm.

シアンフィルタ14Cyは、シアン色に相当する波長領域の光を透過するものである。このシアンフィルタ14Cyは、C.I. Pigment Blue 15:3等の有機顔料を含むカラーレジストから形成される。シアンフィルタ14Cyは、略480nmの波長の光に対して透過率のピーク値を有するものである。また、それ以上の波長の光に対しては、透過率の値が徐々に減少し、略580nm〜略700nmの波長の光に対して5%未満の透過率の値を示す。そして、略700nm以上の波長領域の光に対して再び高透過率の値を有し、略780nm以上の波長領域においては90%以上の透過率を示す。なお、半値波長は、略750nmである。   The cyan filter 14Cy transmits light in a wavelength region corresponding to cyan. The cyan filter 14Cy is formed from a color resist containing an organic pigment such as C.I. Pigment Blue 15: 3. The cyan filter 14Cy has a transmittance peak value with respect to light having a wavelength of about 480 nm. In addition, the transmittance value gradually decreases for light having a wavelength longer than that, and shows a transmittance value of less than 5% for light having a wavelength of about 580 nm to about 700 nm. And it has a high transmittance value again for light in a wavelength region of about 700 nm or more, and shows a transmittance of 90% or more in a wavelength region of about 780 nm or more. Note that the half-value wavelength is approximately 750 nm.

青フィルタ14Bは、入射光のうち青色光を抽出するためのものである。この青フィルタ14Bは、C.I. Pigment Blue 15:6やC.I. Pigment Violet 23等の有機顔料を含むカラーレジストから形成される。なお、カラーレジストには、シクロヘキサノン・PGMEAなどの有機溶剤やポリマーワニス・モノマー・感光剤・分散剤が添加される。青フィルタ14Bは、略450nmの波長の光に対して透過率のピーク値を有するものである。また、それ以上の波長に対しては、透過率の値が徐々に減少し、略550nm〜略750nmの波長の光に対して5%未満の透過率の値を示す。そして、略750nm以上の波長領域の光に対して再び高透過率の値を有し、略850nm以上の波長領域においては90%以上の透過率を示す。なお、半値波長は、略800nmである。   The blue filter 14B is for extracting blue light from incident light. The blue filter 14B is formed of a color resist containing an organic pigment such as C.I. Pigment Blue 15: 6 or C.I. Pigment Violet 23. In addition, organic solvents such as cyclohexanone and PGMEA, polymer varnish, monomer, photosensitizer and dispersant are added to the color resist. The blue filter 14B has a peak value of transmittance with respect to light having a wavelength of about 450 nm. For longer wavelengths, the transmittance value gradually decreases and shows a transmittance value of less than 5% for light having a wavelength of about 550 nm to about 750 nm. And it has a high transmittance value again for light in a wavelength region of about 750 nm or more, and shows a transmittance of 90% or more in a wavelength region of about 850 nm or more. Note that the half-value wavelength is approximately 800 nm.

上述したフィルタ14R・14Cyのそれぞれと、14Rと14Cyとを積層したフィルタ(以下、第1積層フィルタ14RCyともいう)の分光特性は、図3のように示される。図3において、横軸と縦軸とはそれぞれ波長と透過率とを示しており、線a1・a2・a3により、赤フィルタ14R・シアンフィルタ14Cy・第1積層フィルタ14RCyの分光特性がそれぞれ示される。   The spectral characteristics of each of the filters 14R and 14Cy described above and a filter in which 14R and 14Cy are stacked (hereinafter also referred to as a first stacked filter 14RCy) are shown in FIG. In FIG. 3, the horizontal axis and the vertical axis indicate the wavelength and the transmittance, respectively, and the spectral characteristics of the red filter 14R, the cyan filter 14Cy, and the first multilayer filter 14RCy are indicated by lines a1, a2, and a3, respectively. .

フィルタ14R・14Bのそれぞれと、14Rおよび14Bを積層したフィルタ(以下、第2積層フィルタ14RBともいう)との分光特性は、図4のように示される。図4において、横軸と縦軸とはそれぞれ波長と透過率とを示しており、線b1・b2・b3により、赤フィルタ14R・青フィルタ14B・第2積層フィルタ14RBの分光特性がそれぞれ示される。   The spectral characteristics of each of the filters 14R and 14B and a filter in which 14R and 14B are laminated (hereinafter also referred to as a second laminated filter 14RB) are shown in FIG. In FIG. 4, the horizontal axis and the vertical axis indicate the wavelength and transmittance, respectively, and the spectral characteristics of the red filter 14R, the blue filter 14B, and the second multilayer filter 14RB are indicated by lines b1, b2, and b3, respectively. .

なお、各フィルタの分光特性は、顔料の種類や比率およびフィルタの膜厚などにより微調整することができる。   Note that the spectral characteristics of each filter can be finely adjusted according to the type and ratio of the pigment, the film thickness of the filter, and the like.

マイクロレンズ15は、受光素子12に光を集光するためのものであり、フィルタ14の上に形成される。なお、マイクロレンズ15は、平坦化層13と同じ材質のものから形成される。   The microlens 15 is for condensing light on the light receiving element 12 and is formed on the filter 14. Note that the microlens 15 is made of the same material as the planarizing layer 13.

信号処理部20は、演算部21と出力部22とを備えている。   The signal processing unit 20 includes a calculation unit 21 and an output unit 22.

演算部21は、シアン受光素子12Cyから送出される強度値と、青受光素子12Bから送出される強度値とを引き算処理するものである。これにより、第1積層フィルタ12RCyの半値波長と、第2積層フィルタ12RBの半値波長との差分に対応する波長領域の光の強度値を求めることができる。   The calculation unit 21 performs a subtraction process on the intensity value sent from the cyan light receiving element 12Cy and the intensity value sent from the blue light receiving element 12B. Thereby, the intensity value of the light in the wavelength region corresponding to the difference between the half-value wavelength of the first multilayer filter 12RCy and the half-value wavelength of the second multilayer filter 12RB can be obtained.

ここで、第1積層フィルタ12RCyは略750nmの半値波長を有し、第2積層フィルタ12RBは略800nmの半値波長を有している。それゆえ、演算部21は、両者の差分である750nm〜800nmの波長領域の光(赤外線)の強度値を求めることができる。また、演算部21は、演算により求めた光の強度値を、赤外線の強度値として、出力部22に送出する。   Here, the first multilayer filter 12RCy has a half-value wavelength of about 750 nm, and the second multilayer filter 12RB has a half-value wavelength of about 800 nm. Therefore, the calculation unit 21 can obtain the intensity value of light (infrared rays) in the wavelength region of 750 nm to 800 nm, which is the difference between the two. In addition, the calculation unit 21 sends the light intensity value obtained by the calculation to the output unit 22 as an infrared intensity value.

出力部22は、演算部21により算出された赤外線の強度値が予め設定された設定値以上の場合、検出信号を出力するものである。ここでは、略750nm〜略800nmの波長領域の赤外線が検出された場合に外部装置に検出信号を出力する。   The output unit 22 outputs a detection signal when the infrared intensity value calculated by the calculation unit 21 is greater than or equal to a preset value. Here, a detection signal is output to an external device when infrared rays in a wavelength region of approximately 750 nm to approximately 800 nm are detected.

(1−2.動作)
次に、本実施形態に係る光センサ5の動作について図5のフローチャートを用いて説明する。
(1-2. Operation)
Next, the operation of the optical sensor 5 according to this embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG.

始めに、対象物から放射される光の一部が入射光として検出部10に入射する。   First, a part of light emitted from the object enters the detection unit 10 as incident light.

入射光は、マイクロレンズ15により集光され、フィルタ14を透過して受光素子12に到達する。ここで、フィルタ14として、赤フィルタ14Rとシアンフィルタ14Cyとを積層した第1積層フィルタと、赤フィルタ14Rと青フィルタ14Bとを積層した第2積層フィルタとが形成されており、シアン受光素子12Cyと青受光素子12Bとのそれぞれにおいて、光が検出される(ステップS1)。   Incident light is collected by the microlens 15, passes through the filter 14, and reaches the light receiving element 12. Here, as the filter 14, a first multilayer filter in which a red filter 14R and a cyan filter 14Cy are stacked and a second multilayer filter in which a red filter 14R and a blue filter 14B are stacked are formed, and the cyan light receiving element 12Cy. In each of the blue light receiving element 12B, light is detected (step S1).

シアン受光素子12Cyおよび青受光素子12Bに到達した光は電気信号に変換されて、演算部21に送出される。   The light that reaches the cyan light receiving element 12 </ b> Cy and the blue light receiving element 12 </ b> B is converted into an electric signal and sent to the calculation unit 21.

その後、演算部21により、第1積層フィルタを透過した光の強度値と、第2積層フィルタを透過した光の強度値とが引き算処理される(ステップS2)。すなわち、以下に示す演算により、光センサ5により検出される光の強度値が求められる。   Thereafter, the calculation unit 21 subtracts the intensity value of the light transmitted through the first multilayer filter and the intensity value of the light transmitted through the second multilayer filter (step S2). That is, the intensity value of light detected by the optical sensor 5 is obtained by the following calculation.

光センサ5の検出光の強度値
= 第1積層フィルタ(Cy+Red)の検出光の強度値
−第2積層フィルタ(Red+Blue)の検出光の強度値
そして、光センサ5の検出光の強度値が設定値以上である場合、第1積層フィルタと第2積層フィルタとの差に対応する波長領域の光が検出されたとして、検出信号を外部装置に出力する(ステップS3−Yes,S4)。一方、光センサ5の検出光の強度値が設定値未満である場合、検出信号を出力せずに処理を終了する(ステップS3−No)。
Intensity value of the detection light of the optical sensor 5 = Intensity value of the detection light of the first multilayer filter (Cy + Red) −Intensity value of the detection light of the second multilayer filter (Red + Blue) And the intensity value of the detection light of the optical sensor 5 is set If the value is equal to or greater than the value, the detection signal is output to the external device on the assumption that light in the wavelength region corresponding to the difference between the first multilayer filter and the second multilayer filter has been detected (steps S3-Yes, S4). On the other hand, when the intensity value of the detection light of the optical sensor 5 is less than the set value, the process ends without outputting the detection signal (step S3-No).

(1−3.効果)
以上説明したように、本実施形態に係る光センサ5は、赤色の有機顔料により各受光素子12上に形成された赤フィルタ14Rと、赤フィルタ14Rより短波長域で入射光を透過するシアン色の有機顔料により選択的に赤フィルタ14R上に形成されたシアンフィルタ(第1フィルタ)14Cyと、シアンフィルタ14Cyより短波長域で入射光を透過する青色の有機顔料により選択的に赤フィルタ14R上に形成された青フィルタ(第2フィルタ)14Bと、シアンフィルタ(第1フィルタ)14Cyと赤フィルタ14Rとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値から、青フィルタ(第2フィルタ)14Bと赤フィルタ14Rとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値を引き算処理する演算手段とを備えた構成により、有機顔料を用いて赤外線透過フィルタを形成しているので、生産性の高い赤外線領域の光センサを提供できる。
(1-3. Effect)
As described above, the optical sensor 5 according to the present embodiment includes the red filter 14R formed on each light receiving element 12 by a red organic pigment, and the cyan color that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter 14R. The cyan filter (first filter) 14Cy selectively formed on the red filter 14R by the organic pigment and the red filter 14R selectively by the blue organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the cyan filter 14Cy. The blue filter (second filter) 14B, the cyan filter (first filter) 14Cy, and the intensity value obtained from the light receiving element that receives the incident light that has passed through the red filter 14R, the blue filter (second filter) 14B. And an arithmetic means for subtracting the intensity value obtained from the light receiving element that receives the incident light transmitted through the filter 14B and the red filter 14R. With the configuration, since the forming infrared transmission filter using an organic pigment, it can provide a light sensor of high productivity infrared region.

また、光センサ5は、シアン色の有機顔料からなるシアンフィルタ14Cy及び赤フィルタ14Rと、青色の有機顔料からなる青フィルタ14B及び赤フィルタ14Rとのそれぞれを透過した光の電気信号を演算処理しているので、図6に示すような分光特性を有するフィルタを見かけ上具備していることになる。図6において、横軸と縦軸とはそれぞれ波長と透過率とを示しており、線c1・c2・c3により、第1積層フィルタ・第2積層フィルタ・演算処理により求まる見かけ上のフィルタの分光特性がそれぞれ示される。すなわち、本実施形態に係る光センサ5は、略720nm〜略850nmの波長領域の光を透過し、略780nmの波長の光に対し透過率が略82%のピーク値を有するフィルタと等価のフィルタを具備していることになる。このため、光センサ5は、略750nm〜略800nmの波長領域の赤外線を検出することができる。   Further, the optical sensor 5 performs arithmetic processing on the electrical signals of the light transmitted through the cyan filter 14Cy and the red filter 14R made of a cyan organic pigment, and the blue filter 14B and the red filter 14R made of a blue organic pigment. Therefore, the filter having the spectral characteristics as shown in FIG. 6 is apparently provided. In FIG. 6, the horizontal axis and the vertical axis indicate the wavelength and the transmittance, respectively, and spectral lines of the apparent filter obtained by the first multilayer filter, the second multilayer filter, and the arithmetic processing are represented by lines c1, c2, and c3. Each characteristic is shown. That is, the optical sensor 5 according to the present embodiment transmits light in a wavelength region of approximately 720 nm to approximately 850 nm, and is a filter equivalent to a filter having a peak value of approximately 82% transmittance with respect to light having a wavelength of approximately 780 nm. It is equipped with. For this reason, the optical sensor 5 can detect infrared rays in a wavelength region of about 750 nm to about 800 nm.

また、受光素子12に光を集光するためのマイクロレンズ15をフィルタ14上に形成しているので、フィルタ14を薄くすることができ、小型の光センサ5を提供することができる。例えば、CMOSやCCD等の受光素子の開口率は通常20〜40%と低い。これに対し、本実施形態に係る検出部10によれば、マイクロレンズ15と受光素子12との距離を短くすることができる。それゆえ、入射光の取り込み角度を大きくすることができ、光センサ5の感度を上げることができる。   Moreover, since the microlens 15 for condensing light on the light receiving element 12 is formed on the filter 14, the filter 14 can be thinned, and the small photosensor 5 can be provided. For example, the aperture ratio of a light receiving element such as a CMOS or CCD is usually as low as 20 to 40%. On the other hand, according to the detection unit 10 according to the present embodiment, the distance between the microlens 15 and the light receiving element 12 can be shortened. Therefore, the incident angle of incident light can be increased, and the sensitivity of the optical sensor 5 can be increased.

なお、マイクロレンズ15は、フェノール系・ポリスチレン系・アクリル系などの樹脂を用いることができるが、耐熱性などの観点からポリスチレン系、望むらくはアクリル系が好ましい。低屈折率の透明樹脂、例えば、フッ素含有アクリル樹脂なども好ましい。マイクロレンズ15上に反射防止膜や低屈折率の樹脂膜を積層する構成では、マイクロレンズ15の材料を窒化シリコンや酸窒化シリコンなどによるマイクロレンズとしてもよい。   The microlens 15 may be a phenolic, polystyrene, or acrylic resin, but is preferably polystyrene or, preferably, acrylic, from the viewpoint of heat resistance. A transparent resin having a low refractive index, such as a fluorine-containing acrylic resin, is also preferable. In the configuration in which an antireflection film or a low refractive index resin film is laminated on the microlens 15, the material of the microlens 15 may be a microlens made of silicon nitride, silicon oxynitride, or the like.

また、本実施形態に係る平坦化層13は、紫外線吸収剤としてクマリン系の染料を染料濃度で5%含有したアクリル樹脂により形成されている。それゆえ、平坦化層13の分光特性を、365nm〜420nmの波長の光に対して透過率が50%となる点を有し、かつ450nm以上の波長の光に対して90%以上の透過率となるようにすることができる。この場合、フォトリソグラフィ法でフィルタ14をパターン露光する際の基板11からのハレーションの影響を平坦化層13に吸収させることでき、フィルタ14の画素太りを抑えることができる。   Further, the planarization layer 13 according to the present embodiment is formed of an acrylic resin containing 5% of a coumarin-based dye as a UV absorber in a dye concentration. Therefore, the spectral characteristics of the planarization layer 13 have a point that the transmittance is 50% for light with a wavelength of 365 nm to 420 nm, and the transmittance is 90% or more for light with a wavelength of 450 nm or more. Can be. In this case, the planarization layer 13 can absorb the influence of halation from the substrate 11 when the filter 14 is pattern-exposed by photolithography, and the pixel thickness of the filter 14 can be suppressed.

(変形例)
なお、本実施形態の光センサ5においては、赤フィルタ14R上にシアンフィルタ14Cyまたは青フィルタ14Bを形成しているが、図7に示すように、シアンフィルタ14Cyまたは青フィルタ14Bの上に赤フィルタ14Rを形成しても同様の効果が得られる。
(Modification)
In the photosensor 5 of the present embodiment, the cyan filter 14Cy or the blue filter 14B is formed on the red filter 14R. However, as shown in FIG. 7, the red filter is placed on the cyan filter 14Cy or the blue filter 14B. Even if 14R is formed, the same effect can be obtained.

また、本実施形態の光センサ5においては、赤フィルタ14R上にシアンフィルタ14Cyまたは青フィルタ14Bを形成しているが、赤色の有機顔料とシアン色の有機顔料とを混ぜて第1積層フィルタを形成してもよく、赤色の有機顔料と青色の有機顔料とを混ぜて第2積層フィルタを形成してもよい。ただし、有機顔料を混合すると可視光を透過しなくなり、パターン露光時のアライメントが難しくなるので、生産性が低下するおそれがある。それゆえ、アライメントの観点からすれば、有機顔料を混合したフィルタよりも有機顔料フィルタを積層したものの方が望ましい。   In the photosensor 5 of the present embodiment, the cyan filter 14Cy or the blue filter 14B is formed on the red filter 14R. However, the first multilayer filter is formed by mixing a red organic pigment and a cyan organic pigment. Alternatively, the second multilayer filter may be formed by mixing a red organic pigment and a blue organic pigment. However, when organic pigments are mixed, visible light is not transmitted, and alignment during pattern exposure becomes difficult, which may reduce productivity. Therefore, from the viewpoint of alignment, a layer in which organic pigment filters are laminated is more preferable than a filter in which organic pigments are mixed.

<第2の実施形態>
本発明の第2の実施形態では、第1の実施形態に係る検出部10のフィルタの製造方法について、図8および図9の工程図を用いて説明する。
<Second Embodiment>
In the second embodiment of the present invention, a method for manufacturing the filter of the detection unit 10 according to the first embodiment will be described with reference to the process diagrams of FIGS.

まず、受光素子12(図8において12Cy・12B)が形成された基板11に、平坦化層13を形成する。ここでは、クマリン系の染料を染料濃度で5%含有したアクリル樹脂の塗布液を、2000rpmの回転数でスピンコートした後、180℃以上の熱処理で硬膜することにより、膜厚0.1μmの平坦化層13を形成する(図8(A))。   First, the planarization layer 13 is formed on the substrate 11 on which the light receiving element 12 (12Cy · 12B in FIG. 8) is formed. Here, an acrylic resin coating solution containing 5% of a coumarin dye at a dye concentration is spin-coated at a rotation speed of 2000 rpm, and then hardened by a heat treatment at 180 ° C. or more, whereby a film thickness of 0.1 μm is obtained. A planarization layer 13 is formed (FIG. 8A).

次に、平坦化層13の上に約1.5μm膜厚の赤色樹脂層RLを形成する。赤色樹脂層RLは、例えば、C.I. Pigment Red 177とC.I. Pigment Yellow 139などの有機顔料を添加した感光性樹脂層である。そして、この赤色樹脂層RLをパターン露光する。ここでは、露光された部分が光化学反応を起こし、アルカリ不溶となる。その後、アルカリ溶液などの現像液を用いて光が照射されていない部分を除去し、赤フィルタ14Rを形成する(図8(B))。   Next, a red resin layer RL having a thickness of about 1.5 μm is formed on the planarizing layer 13. The red resin layer RL is a photosensitive resin layer to which organic pigments such as C.I. Pigment Red 177 and C.I. Pigment Yellow 139 are added. And this red resin layer RL is pattern-exposed. Here, the exposed portion undergoes a photochemical reaction and becomes insoluble in alkali. Thereafter, a portion not irradiated with light is removed using a developing solution such as an alkaline solution to form a red filter 14R (FIG. 8B).

続いて、赤フィルタ14R上に約1.5μm膜厚の青色樹脂層BLを形成する。青色樹脂層BLは、例えば、C.I. Pigment Blue 15:6やC.I. Pigment Violet 23等の有機顔料を添加した感光性樹脂層である。そして、この青色樹脂層BLを、マスクMを用いてパターン露光する(図8(C))。ここでは、露光された部分が光化学反応を起こし、アルカリ不溶となる。その後、アルカリ溶液などの現像液を用いて光が照射されていない部分を除去して、青フィルタ14Bを形成する(図8(D))。   Subsequently, a blue resin layer BL having a thickness of about 1.5 μm is formed on the red filter 14R. The blue resin layer BL is a photosensitive resin layer to which an organic pigment such as C.I. Pigment Blue 15: 6 or C.I. Pigment Violet 23 is added. Then, the blue resin layer BL is subjected to pattern exposure using the mask M (FIG. 8C). Here, the exposed portion undergoes a photochemical reaction and becomes insoluble in alkali. Thereafter, a portion not irradiated with light is removed using a developing solution such as an alkaline solution to form a blue filter 14B (FIG. 8D).

また、同様のフォトリソグラフィプロセスにより、C.I. Pigment Blue 15:3等の有機顔料を用いて、約1.5μm膜厚のシアンフィルタ14Cyを形成する(図9(A))。   Further, by the same photolithography process, a cyan filter 14Cy having a thickness of about 1.5 μm is formed using an organic pigment such as C.I. Pigment Blue 15: 3 (FIG. 9A).

このようにして、赤フィルタ14R・青フィルタ14B・シアンフィルタ14Cyを形成した後に、約2μm膜厚の透明樹脂層WLを形成する。透明樹脂層WLは、平坦化層13と同じ材質である。   Thus, after forming the red filter 14R, the blue filter 14B, and the cyan filter 14Cy, a transparent resin layer WL having a thickness of about 2 μm is formed. The transparent resin layer WL is the same material as the planarizing layer 13.

さらに、透明樹脂層WLの上にフェノール樹脂層16を形成する(図9(B))。フェノール樹脂層16は、後述するドライエッチングの際、エッチングレートを制御し、所望する形状のマイクロレンズ15を得るために形成する。なお、フェノール樹脂層16は、熱フローによりレンズ母型17Mを形成する際、熱フローの制御の役割を果たす。   Further, the phenol resin layer 16 is formed on the transparent resin layer WL (FIG. 9B). The phenol resin layer 16 is formed in order to obtain a microlens 15 having a desired shape by controlling an etching rate during dry etching described later. The phenol resin layer 16 plays a role of controlling the heat flow when the lens matrix 17M is formed by heat flow.

続いて、フェノール樹脂層16の上に感光性樹脂層17を形成する。感光性樹脂層17は、例えば、アルカリ可溶性・感光性・熱フロー性を持つアルカリ樹脂により形成することができる。   Subsequently, a photosensitive resin layer 17 is formed on the phenol resin layer 16. The photosensitive resin layer 17 can be formed of, for example, an alkali resin having alkali solubility, photosensitivity, and heat flow.

次に、感光性樹脂層17をフォトリソグラフィのプロセスにて矩形のパターンにする。それから、熱処理により矩形状パターンを溶融しながら硬化させたのち、冷却させる。これにより、溶融時の樹脂の表面張力により、半球状となったレンズ母型17Mを形成することができる(図9(C))。   Next, the photosensitive resin layer 17 is formed into a rectangular pattern by a photolithography process. Then, the rectangular pattern is cured while being melted by heat treatment, and then cooled. As a result, the lens matrix 17M having a hemispherical shape can be formed by the surface tension of the resin at the time of melting (FIG. 9C).

続いて、レンズ母型17Mをマスクとしてドライエッチング処理する。これにより、レンズ母型17Mの形状がフェノール樹脂層16を介して感光性樹脂層17に転写され、マイクロレンズ15が形成される(図9(D))。   Subsequently, dry etching is performed using the lens matrix 17M as a mask. Thereby, the shape of the lens matrix 17M is transferred to the photosensitive resin layer 17 via the phenol resin layer 16, and the microlens 15 is formed (FIG. 9D).

なお、マイクロレンズの開口率を上げ、また、マイクロレンズの形状を良くし、レンズ表面のあれを防止するため、レンズ母型17Mのエッチングレートはフェノール樹脂16のエッチングレートより高くし、透明樹脂層WLのエッチングレートは、フェノール樹脂層16のエッチングレートより高くするか、同等するのが望ましい。   In order to increase the aperture ratio of the microlens, improve the shape of the microlens, and prevent the lens surface from being roughened, the etching rate of the lens matrix 17M is set higher than the etching rate of the phenol resin 16, and the transparent resin layer It is desirable that the etching rate of WL be higher than or equal to the etching rate of the phenol resin layer 16.

以上説明した方法により、検出部10のフィルタを製造することができる。   The filter of the detection unit 10 can be manufactured by the method described above.

すなわち、本実施形態に係るフィルタ製造方法によれば、基板11に形成されたシアン受光素子12Cy(第1受光素子)および青受光素子12B(第2受光素子)と、シアン受光素子12Cyから得られた強度値と、青受光素子12Bから得られた強度値とを引き算処理する演算部21とを備えた光センサ5に用いられるフィルタであって、シアン受光素子12Cy上に順次積層される赤フィルタ12Rおよびシアンフィルタ12Cyと、青受光素子12B上に順次積層される赤フィルタ12Rおよび青フィルタ12Bとを備えたフィルタを製造することができる。   That is, according to the filter manufacturing method according to the present embodiment, the light receiving element 12Cy is obtained from the cyan light receiving element 12Cy (first light receiving element) and the blue light receiving element 12B (second light receiving element) formed on the substrate 11, and the cyan light receiving element 12Cy. A filter used in the optical sensor 5 provided with a calculation unit 21 that subtracts the intensity value obtained from the intensity value obtained from the blue light-receiving element 12B, and is a red filter that is sequentially stacked on the cyan light-receiving element 12Cy. A filter including the 12R and the cyan filter 12Cy, and the red filter 12R and the blue filter 12B sequentially stacked on the blue light receiving element 12B can be manufactured.

また、本実施形態に係るフィルタ製造方法では、赤・シアン・青の有機顔料を用いているので、略750nm〜略800nmの波長領域の赤外線を検出するフィルタを製造することができる。   In the filter manufacturing method according to the present embodiment, red, cyan, and blue organic pigments are used. Therefore, a filter that detects infrared rays in a wavelength region of about 750 nm to about 800 nm can be manufactured.

また、本実施形態に係るフィルタ製造方法では、有機顔料を用いてフィルタを製造しているので、真空蒸着装置を用いる必要が無い。そのため、無機フィルタの製造に比して、生産性の高めることができる。具体的には、フォトリソグラフィにより赤外線透過フィルタを形成するので、真空蒸着するのに比べて安価に製造できる。   Moreover, in the filter manufacturing method according to the present embodiment, since the filter is manufactured using an organic pigment, it is not necessary to use a vacuum evaporation apparatus. Therefore, productivity can be improved compared with manufacture of an inorganic filter. Specifically, since the infrared transmission filter is formed by photolithography, it can be manufactured at a lower cost than vacuum deposition.

さらに、本実施形態に係るフィルタ製造方法では、有機顔料を用いてフィルタを製造しているので、分光異常が発生した場合でもリワークが可能であり、高価なデバイスを無駄にしてしまうことがない。また、無機フィルタと比して、欠陥が少なく、光の入射角による分光シフトも少ない。   Furthermore, in the filter manufacturing method according to the present embodiment, since the filter is manufactured using an organic pigment, rework is possible even when a spectral abnormality occurs, and an expensive device is not wasted. In addition, there are fewer defects and less spectral shift due to the incident angle of light than inorganic filters.

(比較例)
本実施形態に係る検出部10のフィルタ(有機顔料フィルタ)と無機フィルタ50との比較例を示す。
(Comparative example)
A comparative example of the filter (organic pigment filter) of the detection unit 10 and the inorganic filter 50 according to the present embodiment is shown.

図10は無機フィルタ50の断面の構成を示す図である。ここでは、無機フィルタ50は、真空蒸着によりシリコンウエハ上にTiOを1層目として、その上にSiOとTiOとを交互に70層重ねて形成した。また、膜厚の合計が4.0μmとなるようにした。なお、TiO成膜時はガス圧1.5×10−2,温度340℃とし、SiO成膜時はガス圧1.4×10−3,温度340℃として形成した。 FIG. 10 is a diagram showing a cross-sectional configuration of the inorganic filter 50. Here, inorganic filter 50, as a first layer of TiO 2 on a silicon wafer by vacuum evaporation, to form overlapping 70 layers alternately and SiO 2 and TiO 2 thereon. The total film thickness was 4.0 μm. The TiO 2 film was formed at a gas pressure of 1.5 × 10 −2 and a temperature of 340 ° C., and the SiO 2 film was formed at a gas pressure of 1.4 × 10 −3 and a temperature of 340 ° C.

上述の手順により無機フィルタ50を形成すると、略760nm〜略810nmの波長領域の光を透過し、略780nmの波長の光に対し透過率が略90%のピーク値を示すものが得られた。   When the inorganic filter 50 was formed by the above-described procedure, light having a wavelength range of approximately 760 nm to approximately 810 nm was transmitted, and a peak having a transmittance of approximately 90% with respect to light having a wavelength of approximately 780 nm was obtained.

この無機フィルタ50と、本実施形態に係る有機顔料フィルタとの分光特性を図11に示すと、それぞれ線d1・d2のように示される。この結果、本実施形態に係る有機顔料フィルタは、無機フィルタと同程度の分光感度が得られることがわかる。   The spectral characteristics of the inorganic filter 50 and the organic pigment filter according to the present embodiment are shown as lines d1 and d2, respectively, in FIG. As a result, it can be seen that the organic pigment filter according to the present embodiment can obtain the same spectral sensitivity as that of the inorganic filter.

また、無機フィルタ50の分光特性の入射角依存性は図12のように示される。図12において、線e1・e2・e3はそれぞれ、入射光の角度が0度・15度・25度のときのものを示している。このように、無機フィルタ50では入射角依存により分光がシフトする。そのため、入射光の角度によっては、光を検出できない場合が生じる。これに比して、有機顔料フィルタでは入射光の角度による分光シフトが少ないので、入射光の角度に依存せずに光を検出できる。   Further, the incident angle dependency of the spectral characteristics of the inorganic filter 50 is shown in FIG. In FIG. 12, lines e1, e2, and e3 indicate the incident light angles of 0 degrees, 15 degrees, and 25 degrees, respectively. Thus, in the inorganic filter 50, the spectrum shifts depending on the incident angle. For this reason, depending on the angle of incident light, light may not be detected. In contrast, the organic pigment filter has a small spectral shift due to the angle of the incident light, and thus can detect light without depending on the angle of the incident light.

なお、分光の測定は、以下のようにして行なった。   The spectroscopic measurement was performed as follows.

まず、受光素子12上の各フィルタ14の膜厚および透明樹脂の膜厚(平坦化層13および透明樹脂層WL)を測定する。なお、透明樹脂については、Si基板上に膜を形成し、その膜厚を接触式の膜厚計(Sloan社製DektakIIA)で測定する。   First, the film thickness of each filter 14 on the light receiving element 12 and the film thickness of the transparent resin (flattening layer 13 and transparent resin layer WL) are measured. In addition, about transparent resin, a film | membrane is formed on Si substrate and the film thickness is measured with a contact-type film thickness meter (DektakIIA by Sloan).

そして、測定した膜厚と同じ膜厚の透明樹脂およびフィルタ14をガラス基板上に形成し、分光光度計(日立製作所製U-3400 spectrophotometer)によって分光を測定する。このとき、ガラス基板のみ(フィルタや透明樹脂がないもの)の値をリファレンスとして、フィルタや透明樹脂がある場合の分光特性を測定する。また、透過率の値は、屈折率1.5の透明ガラスを100%としている。   Then, a transparent resin and a filter 14 having the same thickness as the measured thickness are formed on a glass substrate, and the spectrum is measured with a spectrophotometer (U-3400 spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd.). At this time, the spectral characteristic when there is a filter or a transparent resin is measured using the value of only the glass substrate (no filter or transparent resin) as a reference. The transmittance value is 100% for transparent glass having a refractive index of 1.5.

<その他>
なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に構成要素を適宜組み合わせてもよい。
<Others>
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine a component suitably in different embodiment.

本発明の第1の実施形態に係る光センサ5の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the optical sensor 5 which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 同実施形態に係る光センサ5のI−I’断面の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the I-I 'cross section of the optical sensor 5 which concerns on the embodiment. 同実施形態に係る第1積層フィルタの分光特性を示す図である。It is a figure which shows the spectral characteristics of the 1st multilayer filter which concerns on the same embodiment. 同実施形態に係る第2積層フィルタの分光特性を示す図である。It is a figure which shows the spectral characteristics of the 2nd multilayer filter which concerns on the same embodiment. 同実施形態に係る光センサ5の動作を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating operation | movement of the optical sensor 5 which concerns on the same embodiment. 同実施形態に係る光センサ5が見かけ上具備するフィルタの分光特性を示す図である。It is a figure which shows the spectral characteristic of the filter which the optical sensor 5 which concerns on the embodiment apparently comprises. 同実施形態に係るフィルタの変形例を示す図である。It is a figure showing a modification of a filter concerning the embodiment. 本発明の第2の実施形態に係る検出部10の製造方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the detection part 10 which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 同実施形態に係る検出部10の製造方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the detection part 10 which concerns on the same embodiment. 同実施形態の比較例に係る無機フィルタ50の断面の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the cross section of the inorganic filter 50 which concerns on the comparative example of the embodiment. 同実施形態のフィルタ14と無機フィルタ50との分光特性を示す図である。It is a figure which shows the spectral characteristics of the filter 14 and the inorganic filter 50 of the embodiment. 同実施形態の比較例に係る無機フィルタ50の入射角依存性を示す図である。It is a figure which shows the incident angle dependence of the inorganic filter 50 which concerns on the comparative example of the embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

5・・・光センサ、10・・・検出部、11・・・基板、12・・・受光素子、
12Cy・・・シアン受光素子、12B・・・青受光素子、13・・・平坦化層、
14・・・フィルタ、14R・・・赤フィルタ、14Cy・・・シアンフィルタ、
14B・・・青フィルタ、15・・・マイクロレンズ、20・・・信号処理部、
21・・・演算部、22・・・出力部、50・・・無機フィルタ。
5 ... Optical sensor, 10 ... Detection unit, 11 ... Substrate, 12 ... Light receiving element,
12Cy ... Cyan light receiving element, 12B ... Blue light receiving element, 13 ... Flattening layer,
14 ... Filter, 14R ... Red filter, 14Cy ... Cyan filter,
14B ... Blue filter, 15 ... Microlens, 20 ... Signal processing unit,
21 ... Calculation unit, 22 ... Output unit, 50 ... Inorganic filter.

Claims (6)

基板と、
前記基板に形成され、受光した入射光の強度値を得るための複数の受光素子と、
前記各受光素子上に、赤色の有機顔料により形成された赤フィルタと、
前記赤フィルタ上に、該赤フィルタより短波長域で入射光を透過する第1の有機顔料により選択的に形成された第1フィルタと、
前記第1フィルタが形成された位置とは異なる前記赤フィルタ上の位置に、該第1フィルタより短波長域で入射光を透過する第2の有機顔料により選択的に形成された第2フィルタと、
前記第1フィルタと前記赤フィルタとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値から、前記第2フィルタと前記赤フィルタとを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値を引き算処理する演算手段と
を備えたことを特徴とする光センサ。
A substrate,
A plurality of light receiving elements formed on the substrate for obtaining an intensity value of received incident light;
On each of the light receiving elements, a red filter formed of a red organic pigment,
A first filter selectively formed on the red filter by a first organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter;
A second filter selectively formed by a second organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the first filter at a position on the red filter different from the position at which the first filter is formed; ,
Obtained from a light-receiving element that receives incident light that has passed through the second filter and the red filter, based on an intensity value obtained from the light-receiving element that has received incident light that has passed through the first filter and the red filter. An optical sensor comprising an arithmetic means for subtracting the intensity value.
請求項1に記載の光センサにおいて、
前記第1フィルタは、シアン色の有機顔料からなるシアンフィルタであり、
前記第2フィルタは、青色の有機顔料からなる青フィルタである
ことを特徴とする光センサ。
The optical sensor according to claim 1,
The first filter is a cyan filter made of a cyan organic pigment,
The optical sensor, wherein the second filter is a blue filter made of a blue organic pigment.
基板と、
前記基板に形成され、受光した入射光の強度値を得るための複数の受光素子と、
前記受光素子上に、赤色の有機顔料により選択的に形成された赤フィルタと、
前記赤フィルタが形成された位置とは異なる前記受光素子上の位置に、該赤フィルタより短波長域で入射光を透過するシアン色の有機顔料により選択的に形成されたシアンフィルタと、
前記赤フィルタおよび前記シアンフィルタが形成された位置とは異なる前記受光素子上の位置に、前記シアンフィルタより短波長域で入射光を透過する青色の有機顔料により選択的に形成された青フィルタと、
前記赤フィルタ、前記シアンフィルタ、前記青フィルタのそれぞれを透過した入射光を受光する受光素子から得られた強度値に基づいて、赤外線領域の光の強度値を求める演算手段と
を備えたことを特徴とする光センサ。
A substrate,
A plurality of light receiving elements formed on the substrate for obtaining an intensity value of received incident light;
A red filter selectively formed with a red organic pigment on the light receiving element;
A cyan filter selectively formed by a cyan organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter at a position on the light receiving element different from the position at which the red filter is formed;
A blue filter selectively formed with a blue organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the cyan filter at a position on the light receiving element different from the position where the red filter and the cyan filter are formed; ,
And a calculation means for obtaining an intensity value of light in the infrared region based on an intensity value obtained from a light receiving element that receives incident light transmitted through each of the red filter, the cyan filter, and the blue filter. Features an optical sensor.
基板に形成された第1受光素子および第2受光素子と、
前記第1受光素子から得られた強度値と、前記第2受光素子から得られた強度値とを引き算処理する演算手段と
を備えた光センサに用いられるフィルタであって、
前記第1受光素子上に順次積層される、赤色の有機顔料からなる赤フィルタおよびシアン色の有機顔料からなるシアンフィルタと、
前記第2受光素子上に順次積層される、赤色の有機顔料からなる赤フィルタおよび青色の有機顔料からなる青フィルタと
を備えたことを特徴とするフィルタ。
A first light receiving element and a second light receiving element formed on the substrate;
A filter used in an optical sensor comprising an arithmetic means for subtracting an intensity value obtained from the first light receiving element and an intensity value obtained from the second light receiving element,
A red filter composed of a red organic pigment and a cyan filter composed of a cyan organic pigment, which are sequentially laminated on the first light receiving element;
A filter comprising: a red filter made of a red organic pigment and a blue filter made of a blue organic pigment, which are sequentially laminated on the second light receiving element.
基板に形成された複数の受光素子上に、赤色の有機顔料からなる赤フィルタを形成する赤フィルタ形成工程と、
前記赤フィルタ上に、該赤フィルタより短波長域で入射光を透過する第1の有機顔料からなる第1フィルタを選択的に形成する第1フィルタ形成工程と、
前記第1フィルタが形成される位置とは異なる赤フィルタ上の位置に、該第1フィルタより短波長域で入射光を透過する第2の有機顔料からなる第2フィルタを選択的に形成する第2フィルタ形成工程と
を備えたことを特徴とするフィルタ製造方法。
A red filter forming step of forming a red filter made of a red organic pigment on the plurality of light receiving elements formed on the substrate;
A first filter forming step of selectively forming on the red filter a first filter made of a first organic pigment that transmits incident light in a shorter wavelength region than the red filter;
A second filter made of a second organic pigment that selectively transmits incident light in a shorter wavelength region than the first filter is selectively formed at a position on the red filter that is different from the position where the first filter is formed. A filter manufacturing method comprising two filter forming steps.
請求項5に記載のフィルタ製造方法において、
前記第1フィルタは、シアン色の有機顔料からなるシアンフィルタであり、
前記第2フィルタは、青色の有機顔料からなる青フィルタである
ことを特徴とするフィルタ製造方法。
In the filter manufacturing method of Claim 5,
The first filter is a cyan filter made of a cyan organic pigment,
The filter manufacturing method, wherein the second filter is a blue filter made of a blue organic pigment.
JP2006190695A 2006-07-11 2006-07-11 Infrared region optical sensor, filter, and filter manufacturing method Active JP5261892B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006190695A JP5261892B2 (en) 2006-07-11 2006-07-11 Infrared region optical sensor, filter, and filter manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006190695A JP5261892B2 (en) 2006-07-11 2006-07-11 Infrared region optical sensor, filter, and filter manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008021736A true JP2008021736A (en) 2008-01-31
JP5261892B2 JP5261892B2 (en) 2013-08-14

Family

ID=39077509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006190695A Active JP5261892B2 (en) 2006-07-11 2006-07-11 Infrared region optical sensor, filter, and filter manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5261892B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014115662A (en) * 2013-12-27 2014-06-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate, optical filter part, and display divice
KR20160112991A (en) * 2015-03-19 2016-09-28 제이에스알 가부시끼가이샤 Curable composition, cured film, infrared ray pass filter, and solid state imaging apparatus
WO2017018150A1 (en) * 2015-07-29 2017-02-02 富士フイルム株式会社 Optical sensor device, optical sensor unit, and optical sensor system
JP2017199027A (en) * 2012-11-27 2017-11-02 Jsr株式会社 Optical filter and optical sensor
WO2018163766A1 (en) * 2017-03-09 2018-09-13 富士フイルム株式会社 Structure, kit, and optical sensor

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0653461A (en) * 1992-07-31 1994-02-25 Fuji Xerox Co Ltd Color image sensor
JPH06105319A (en) * 1992-09-22 1994-04-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Color imaging device
JPH1065135A (en) * 1996-05-30 1998-03-06 Toshiba Corp Solid-state image pick-up device and image reader using the same
JP2002521975A (en) * 1998-07-30 2002-07-16 インテル コーポレイション Infrared correction system
JP2003133564A (en) * 2001-10-24 2003-05-09 Mitsumi Electric Co Ltd Light receiving device and light receiving method
JP2005184690A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Sanyo Electric Co Ltd Color image sensor and color signal processing circuit
WO2006003807A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-12 Toppan Printing Co., Ltd. Imaging element
WO2006134740A1 (en) * 2005-06-17 2006-12-21 Toppan Printing Co., Ltd. Imaging element

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0653461A (en) * 1992-07-31 1994-02-25 Fuji Xerox Co Ltd Color image sensor
JPH06105319A (en) * 1992-09-22 1994-04-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Color imaging device
JPH1065135A (en) * 1996-05-30 1998-03-06 Toshiba Corp Solid-state image pick-up device and image reader using the same
JP2002521975A (en) * 1998-07-30 2002-07-16 インテル コーポレイション Infrared correction system
JP2003133564A (en) * 2001-10-24 2003-05-09 Mitsumi Electric Co Ltd Light receiving device and light receiving method
JP2005184690A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Sanyo Electric Co Ltd Color image sensor and color signal processing circuit
WO2006003807A1 (en) * 2004-06-30 2006-01-12 Toppan Printing Co., Ltd. Imaging element
WO2006134740A1 (en) * 2005-06-17 2006-12-21 Toppan Printing Co., Ltd. Imaging element

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017199027A (en) * 2012-11-27 2017-11-02 Jsr株式会社 Optical filter and optical sensor
JP2014115662A (en) * 2013-12-27 2014-06-26 Dainippon Printing Co Ltd Substrate, optical filter part, and display divice
KR20160112991A (en) * 2015-03-19 2016-09-28 제이에스알 가부시끼가이샤 Curable composition, cured film, infrared ray pass filter, and solid state imaging apparatus
JP2016177273A (en) * 2015-03-19 2016-10-06 Jsr株式会社 Curable composition, cured film, infrared light transmission filter, and solid-state imaging device
KR102540966B1 (en) 2015-03-19 2023-06-07 제이에스알 가부시끼가이샤 Curable composition, cured film, infrared ray pass filter, and solid state imaging apparatus
WO2017018150A1 (en) * 2015-07-29 2017-02-02 富士フイルム株式会社 Optical sensor device, optical sensor unit, and optical sensor system
JPWO2017018150A1 (en) * 2015-07-29 2018-02-22 富士フイルム株式会社 Optical sensor device, optical sensor unit and optical sensor system
WO2018163766A1 (en) * 2017-03-09 2018-09-13 富士フイルム株式会社 Structure, kit, and optical sensor
JPWO2018163766A1 (en) * 2017-03-09 2019-12-26 富士フイルム株式会社 Structures, kits and optical sensors
US10802186B2 (en) 2017-03-09 2020-10-13 Fujifilm Corporation Structure, kit, and optical sensor

Also Published As

Publication number Publication date
JP5261892B2 (en) 2013-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI278991B (en) Solid image-pickup device and method of manufacturing the same
US20200083269A1 (en) Imaging element and camera system
JP4967427B2 (en) Image sensor
JP5194363B2 (en) Optical sensor
KR960016178B1 (en) Solid state imaging device and manufacturing method thereof
WO2013121742A1 (en) Image pickup element
KR101035613B1 (en) CMOS image sensor
JP5261892B2 (en) Infrared region optical sensor, filter, and filter manufacturing method
WO2020122032A1 (en) Solid-state imaging device and method for producing solid-state imaging device
TW201728922A (en) Method for manufacturing solid-state photographic element, solid-state photographic element, method for manufacturing color filter, and color filter
JP4967424B2 (en) Image sensor
JP2011171328A (en) Solid-state image pickup element and method of manufacturing the same
US6200712B1 (en) Color filter image array optoelectronic microelectronic fabrication with three dimensional color filter layer and method for fabrication thereof
JP2008258367A (en) Solid-state imaging device, solid-state imaging device, and manufacturing method thereof
JP5027081B2 (en) Color imaging device and method for manufacturing color imaging device
WO2018193986A1 (en) Solid-state imaging element and method for manufacturing same
WO2009144866A1 (en) Solid state imaging device
JP2006156799A (en) Solid-state image sensor and its manufacturing method
JP2008071959A (en) Solid-state image sensing device
JP5028791B2 (en) Imaging device and imaging apparatus
JP2006269735A (en) Solid-state image pickup device and its manufacturing method
JP2008283115A (en) Manufacturing method for solid-state image pickup device
KR100821477B1 (en) CMOS image sensor and manufacturing method
JP5029640B2 (en) Solid-state imaging device, electronic apparatus, and manufacturing method of solid-state imaging device
JP2011165791A (en) Solid-state imaging element, and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090626

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100628

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120221

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120420

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120529

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130415

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5261892

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250